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仪器详情
高精度无掩膜光刻系统
仪器编号
2026003871
规格
生产厂家
安徽泽攸科技有限公司
型号
ZML10L
制造国家
中国
分类号
放置地点
卫津路校区第五教学楼206
出厂日期
2026-02-25
购置日期
2026-06-09
入网日期
2026-07-02
主要规格及技术指标
红光引导曝光，所见即所得，特别适合样品上套刻；OPC 修正算法优化图形质量。带自动聚焦模块，保证曝光图形质量；4 英寸高精度电动样品台，实现微米级拼接和套刻；电动旋转；套刻精度：1un，拼接精度：0.
主要功能及特色
无
主要附件及配置
无
| 公告名称 | 公告内容 | 发布日期 |
|---|
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