主要规格及技术指标

1.X射线源类型：微聚焦单色化X射线源
2.分析尺寸可在20μm--700μm之间连续可调，调节步长≤10μm；
3.最大功率≥100W，实现最大灵敏度时指标所需的光源功率≤300W
4.大束斑能量分辨率和灵敏度：对Ag3d5/2峰能量分辨≤1.0eV时，光源功率≤300W条件下，计数率强度≥4Mcps；对Ag3d5/2峰能量分辨≤0.5eV时，计数率强度≥600kcps；能量分辨率≤0.45eV
5.分析室极限真空度：≤5.0×10-8Pa；
6.成像XPS，可实现从≤6μm成像图的区域内溯源获谱，可实现快速平行成像，对锐利刃口样品，线扫描的最佳空间分辨率≤3μm。
7.样品台倾斜角度：-90°～+90°范围内可倾斜,软件内置角分辨XPS数据处理功能、超薄多层膜拟合模块，并能实现膜厚计算等功能。

主要功能及特色

通过超高真空通道j将电化学工作站，手套箱，光催化反应池和XPS连接在一起，大大降低了转移过程对样品的影响。可以进行准原位实验，大大提高效率，降低实验不确定性。目前为世界范围内最先进的材料分析平台，可满足催化剂，半导体，各类能源电池以及各类新兴材料的测试，同时兼顾常规实验和用户特殊定制化需求。

主要附件及配置

氩离子/团簇刻蚀、紫外光电子能谱、原位光照、准原位光催化反应池、准原位电化学反应池、互联手套箱系统。