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仪器详情
超高真空磁控溅射与电子束蒸发联合镀膜系统
仪器编号
2026000379
规格
生产厂家
矽碁科技股份有限公司
型号
ASB-SEL-C04
制造国家
中国
分类号
放置地点
第49教学楼
出厂日期
2024-04-01
购置日期
2026-01-19
入网日期
2026-04-08
主要规格及技术指标
主腔室真空度：<5E-10Torr；溅射靶数目：>=3个；溅射电源类型：同时配备DC和RF溅射电源；电子束蒸发源加速电压：10kV；坩埚数量：>=4个；预真空室配备Ar等离子清洁装置
主要功能及特色
无
主要附件及配置
无
| 公告名称 | 公告内容 | 发布日期 |
|---|
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