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化学气相沉积
化学气相沉积
仪器编号
2025010355
规格
生产厂家
北京北方华创微电子装备有限公司
型号
Eris E120R
制造国家
中国
分类号
放置地点
第一阶梯教室(东)东阶梯
出厂日期
2024-12-02
购置日期
2025-12-04
入网日期
2026-03-10

主要规格及技术指标

1、 生长材料:单晶硅(衬底:单晶硅)、多晶硅(衬底:二氧化硅);厚度5-60微米 2、 掺杂类型:P型(掺杂元素:硼);掺杂浓度1017-1020/cm3 3、 支持选择性外延(单晶硅上生长单晶

主要功能及特色

主要附件及配置

公告名称 公告内容 发布日期