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薄膜沉积系统
薄膜沉积系统
仪器编号
2025009063
规格
生产厂家
北京北方华创微电子装备有限公司
型号
HORIC 04422
制造国家
中国
分类号
放置地点
卫津路校区第一阶梯教室(东)精仪学院微纳机电系统实验室东阶梯一楼东阶梯
出厂日期
2022-04-01
购置日期
2025-11-11
入网日期
2025-12-30

主要规格及技术指标

工艺:干氧+湿氧;兼容4&6英寸硅片;工艺温度大于600℃;工艺齐鲁配置:至少包括N2,O2以及水汽发生器;主要工艺指标要求:片内均匀性≤±1.5%,片间均匀性≤±2%及批间均匀性≤±2%(厚

主要功能及特色

主要附件及配置

公告名称 公告内容 发布日期