主要规格及技术指标

Leica EM TIC 3X 是徕卡（Leica Microsystems）推出的一款高端离子束样品切割 / 抛光系统。 它主要用于为扫描电子显微镜 (SEM) 制备截面或平面表面，特别适用于 EBSD 无应力样品的制备。相比传统单离子束或双离子束系统，EM TIC 3X 采用三束离子源设计，具有更高的切割/抛光效率、较大的可加工面积以及更高的表面质量稳定性。此外，该仪器可在常温或低温（冷冻）条件下运行，以适应对热敏感样品（如高分子、聚合物、生物材料等）的制样需求。。

主要功能及特色

1. 用于为扫描电子显微镜 (SEM) 制备截面或平面表面，特别适用于 EBSD 无应力样品的制备
2. 相比传统单离子束或双离子束系统，EM TIC 3X 采用三束离子源设计，具有更高的切割效率、较大的可加工面积以及更高的表面质量稳定性
3. 离子切割，可在常温或低温（冷冻）条件下运行

主要附件及配置

1.搭配Leica TXP 精研一体机作为样品预处理前的机械切割和抛光
2. 搭配 LeicaEM PD300临界点干燥仪作为样品预处理前的脱水设备。