1、蒸发电源:
(1)电源最大输出功率:2250W
(2)蒸发源工作电压:0V~10V
(3)最大工作电流:225A
(4)电源输出电流:0A~225A连续可调
(5)电源工作压力范围:0Pa~100 Pa
(6)连续工作时间:24h
2、直流电源:
(1)直流电源最大输出功率:500W
(2)直流电源工作电压:0~1500V
(3)最大工作电流:0.5A
(4)直流电源工作压力范围:0 Pa~100 Pa
(5)连续工作时间:24h
3、膜厚监控仪:
(1)厚度范围0-99u9999 A
(2)速率范围0-999.9A
(3)厚度显示分辨率1A
(4)速率显示分辨率0.1A
(5)晶振频率6MHz
(6)设置镀膜厚度 1-99u9999 A
(7)镀膜层数 100 层
1、可对基片进行等离子体清洗
2、基片最高可加热至 500 摄氏度
3、共有3个蒸发源
4、蒸发镀膜时可进行镀膜控制,比如控制镀膜时间和膜厚等
无
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