1. TEM线分辨率:0.10 nm@200 kV,点分辨率:0.23 nm@200 kV;
2. STEM-HAADF点分辨率:0.16 nm@200 kV;
3.放大倍数:TEM模式下,20k-2000k;
STEM模式下,10k-150M;
4.电子枪:冷场发射电子源;
5.能谱仪(EDS)能量分辨率:136 eV。
JEM-F200采用冷场发射枪,配有HAADF附件,可进行材料微观结构分析:拍摄TEM明场像、暗场像、高分辨像、电子衍射、二次电子像及扫描透射像;可进行材料微观结构成分分析:成分的定量、半定量分析,元素成分的点、线、面分析。
配有双探头超级能谱仪(探头面积200 mm2),能够在任意样品倾角下实现快速高精度的EDS成分分析;配备3D重构成像系统,可获得样品的三维形貌信息; 配备多种原位样品杆,可实现气相、液相、高温和电压等外场作用下的原位电镜研究。
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