主要技术指标:1.样品加热台稳定可达300℃ 2.膜厚监测仪的分辨率为0.1nm 3.在4英寸范围内的不均匀性低于5% 4.膜厚精确可控
支持直流磁控溅射和射频磁控溅射,可用于制备金属薄膜和绝缘薄膜
无