? 成膜材料:二氧化硅,氮化硅? 厚度范围:0~20000埃? 片内刻蚀厚度均匀性:1_Sigma ≤ 5%, ? 片间刻蚀厚度均匀性:1_Sigma ≤ 5 %, ? 刻蚀材料:二氧化硅,氮
SiO2沉积
无