仪器列表
化学机械抛光
化学机械抛光
仪器编号
2017016694
规格
1 抛光盘直径≥400 mm;2 抛光头最大转速≥100转/分钟;3 具有往复式修整装置,金刚石修整环直径≥120 mm。
生产厂家
GnP Technology Inc
型号
POLI-400
制造国家
韩国
分类号
120302
放置地点
卫津路校区第26教学楼精仪学院李桂芳教授实验室26-C-60326楼C603
出厂日期
2022-07-12
购置日期
2022-07-12
入网日期
2022-07-12

主要规格及技术指标

1 抛光盘直径≥400 mm;2 抛光头最大转速≥100转/分钟;3 具有往复式修整装置,金刚石修整环直径≥120 mm。

主要功能及特色

材料的表面抛光

主要附件及配置

公告名称 公告内容 发布日期