.png){kind=icon}
仪器列表
仪器设备 >
材料科学与工程学院 >
仪器详情
四室PVD与CVD联合镀膜系统（高真空磁控溅射镀膜）
仪器编号
2017017774
规格
生产厂家
中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
型号
非标定制
制造国家
中国
分类号
放置地点
北洋园校区第31教学楼北洋园材料学院能源材料实验室北洋园31-31853-109
出厂日期
1970-01-01
购置日期
1970-01-01
入网日期
2021-06-05
主要规格及技术指标
包含磁控离子束溅射室、CVD室、ALD室、进样室、磁控溅射靶、Kaufman离子枪及电源等，至少三靶。CVD室可达6.6E-5Pa；溅射室可达6.6E-6Pa；ALD室10Pa；进样室可达9E-5Pa
主要功能及特色
功能薄膜制备
主要附件及配置
无
| 公告名称 | 公告内容 | 发布日期 |
|---|
版权所有 © 天津大学 访问量: 17855186 系统开发商: 天津市基理科技股份有限公司