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反应离子刻蚀仪器
反应离子刻蚀仪器
仪器编号
2016019092
规格
生产厂家
北京卓望天辰科技有限责任公司
型号
RIE-150
制造国家
中国
分类号
放置地点
卫津路校区第二十教学楼西配楼纳米中心
出厂日期
2019-05-15
购置日期
2019-05-15
入网日期
2019-05-15

主要规格及技术指标

微波频率::13.56MHz 功率:1000W;自动匹配 2.刻蚀速度: Etch Rate =250nm/min@Si;刻蚀均匀性:±5%

主要功能及特色

主要附件及配置

公告名称 公告内容 发布日期