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激光直写光刻系统
激光直写光刻系统
仪器编号
2017000165
规格
生产厂家
苏州苏大维格光电科技股份有限公司
型号
Microlab4-100
制造国家
中国
分类号
放置地点
卫津路校区第二十教学楼西配楼纳米中心
出厂日期
2019-05-15
购置日期
2019-05-15
入网日期
2019-05-15

主要规格及技术指标

最大加工区域148mm直径的圆形区域,标准直写激光分辨率1.0微米,5.0微米,可自动切换,405nm长寿命(10000h)半导体激光器,可更换375nm激光用于su-8光刻胶

主要功能及特色

主要附件及配置

公告名称 公告内容 发布日期